什么是清洁设备及使用目的

清洗系统是利用化学和物理特性去除材料表面不需要的物质的装置。

用于精密仪器、半导体、显示器等制造过程。如果清洁设备使用不当，可能会出现大量缺陷产品和产量。

清洗方法有超声波清洗、喷淋清洗、刷洗、干洗、溶剂清洗等多种。就半导体制造而言，有超过500道制造工序，据说清洗工序占其中的30%～40%。

清洁设备的使用目的

具体清洁设备使用示例如下。

半导体工艺中的硅片清洗

清洗金属过滤网上附着的污垢

去除切割后金属表面附着的金属粉末

清洗设备的选择要考虑污垢的种类、清洗对象的大小、清洗时间、清洗精度等。清洁方法、使用的清洁剂和干燥方法也很重要。