清洗设备结构

清洗设备的基本组成是输送系统、处理罐、纯水罐、干燥台。输送系统是将物体运入、运出，并对处理槽内的物体进行清洗的装置。纯水槽是冲走附着在物体上的化学溶液的水槽，干燥台是干燥物体的装置。

一般来说，一种处理液只能清洗一种污渍，如果要清洗多种污渍，则需要多个处理池和纯水箱。半导体制造工艺使用批量式设备，即一次处理多个晶圆，以及单晶圆设备，即一张接一张地处理晶圆。

在批量方法中，晶圆被放置在称为载体的容器中，每个载体被放置在处理层中进行清洗。此外，单晶片方法在逐个旋转每个晶片的同时进行喷射清洗。