皮拉尼真空计的典型应用场景

1. 半导体制造设备

• 应用：光刻、刻蚀、镀膜设备的真空腔体压强监测与控制（如东京电子 TEL 的刻蚀机、爱发科 ULVAC 的溅射镀膜机）；

• 要求：快速响应（＜100ms）、高精度（±1% FS）、抗污染（避免光刻胶残留附着灯丝）。

2. 真空镀膜设备

• 应用：光学镀膜（如佳能、尼康的镜头镀膜设备）、装饰镀膜（如汽车零部件镀膜）的真空度调节；

• 要求：宽量程（10⁻¹～10⁻⁴ Pa）、稳定输出（确保膜层均匀性）。

3. 真空热处理设备

• 应用：金属材料的真空淬火、退火设备（如日本 DAIDO 的真空炉）；

• 要求：耐高温环境（探头外壳耐 300℃以上高温）、抗水汽干扰。

4. 分析仪器

• 应用：气相色谱仪（GC）、质谱仪（MS）的进样系统真空测量（如岛津 Shimadzu 的 GC-MS）；

• 要求：高精度（±0.5% FS）、低噪声、小体积（不影响仪器内部流场）。

5. 工业真空泵配套

• 应用：旋片真空泵、罗茨真空泵的出口压强监测（如日本爱德华 Edwards、ULVAC 的真空泵）；

• 要求：高可靠性、抗振动（泵运行时的振动不影响灯丝稳定性）。