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更新时间:2026-06-05
浏览次数:12半导体洁净轻制程
Load-Lock 晶圆传送腔、PVD 溅射腔体预抽、离子注入机前级、晶圆电镀设备、半导体检测机台;
实验室 & 精密仪器
SEM 扫描电镜、质谱仪 (GC-MS/LC-MS)、小型镀膜机、高校真空实验、冷冻干燥;
小产能泛半导体
MiniLED 封装、小型研发 PECVD、光学镀膜。
选型口诀:洁净小腔体、少腐蚀、空间小→选爪式风冷 EV-SA
半导体重载量产制程
HDP 高密度刻蚀、PECVD/LPCVD、ALD 原子层沉积、RTP 快速退火、扩散炉、大腔体 CVD 粗抽;适配大量工艺尾气 (SF₆、O₂、卤化物);
面板 / 光伏大产线
LCD/OLED 面板镀膜、HJT 管式 PECVD、硅片烧结炉整线抽气;
化工量产
真空蒸馏、大型真空热处理炉、大容量负压反应釜。
选型口诀:大腔体、大排气量、快速破真空→EV-M 罗茨干泵
强腐蚀半导体工艺
MOCVD 外延、SiC/GaN 第三代半导体刻蚀、含 HF/HBr/Cl₂卤化气体制程、干法去胶灰化(大量腐蚀副产物);
精细化工 / 医药
原料药真空浓缩、溶剂回收、易燃易爆有机气体抽取;
锂电 / 新材料
负极材料烧结、电解液负压脱水。
选型口诀:强酸腐蚀、高水汽、粘稠粉尘多→EST 螺杆防腐款
| 工艺 | 优选泵型 | 荏原对应型号 | 工况特点 |
|---|---|---|---|
| Load-Lock、PVD 前级 | 爪式风冷 | EV-SA20/30 | 洁净、间歇启停、小抽速 |
| 量产刻蚀、常规 CVD | 罗茨干式 | EV-M202/302 | 大流量、多工艺气体 |
| MOCVD、强腐蚀刻蚀 | 防腐螺杆 | EST-WN | 卤气、高腐蚀、高温 |
| 实验室、电镜设备 | 微型爪泵 | EV-A10 | 安装紧凑、无需水冷 |
超高真空机组:干泵(前级预抽)+ 分子泵,PVD / 离子注入可达;
恶劣粉尘工况:螺杆 / 罗茨 + 前置除尘 + 氮气反吹;洁净轻载优先爪式风冷。